Institut de recherche de Chongqing
Technologie de fabrication
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Empilage
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Sinueux
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Adopté par
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La plupart des concurrents
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Utilisation de l’espace
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Bon
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Pauvre
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Impédance interne
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Bas
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Haut
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Risque de contrefaçon de brevet*
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Zéro
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Haut
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